產品分類
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- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
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- 真空熱壓機
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- 二硫化鉬制備
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- 混料機設備
- UV光固機
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- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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高真空多弧離子鍍膜儀 CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）...
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實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應物沉積...
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多弧離子鍍膜儀 本設備為多弧離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)...
